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OpTaliXニュースのバックナンバ

  No.21 : OpTaliX-Pro/Edu/LTの改訂版(Ver.5.90)がリリースされました。
 
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◆◇      レンズと光学多層薄膜の設計解析ソフトウェア
◇                 = OpTaliX =

◇       OpTaliX ニュース 発行元 : 合資会社エクレシア
◆                   web  http://www.ekklesia.co.jp/
◇◇                 email support@ekklesia.co.jp
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 No.21 : OpTaliX-Pro/Edu/LTの改訂版(Ver.5.90)がリリースされました。
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このメイルは、OpTaliXのニュースレター No.21 です。このメイルは OpTaliXの登録ユーザ様および配信登録をされた方にお届けしています。
今後の配信をご希望でないお客様は恐れ入りますが件名欄か本文に配信停止の旨を お書き添えの上 support@ekklesia.co.jp まで返信をお願い申し上げます。
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⇒ OpTaliX の Pro/Edu/LT版が、Ver.5.90 にバージョンアップされました。
 ■新機能■
  • ズームポジションをコマンドラインから 追加、削除、コピーできる ようになりました。"INS Zi..j" , "DEL zi..j" および "COP Zi..j" の各コマンドをお使い下さい。
  • コマンドラインから、ズーム化されたパラメータの値をポジション ごとに個別に変更できるようになりました。従来はすべての ポジションに対する値が一括して同じ設定値に変更されるか、あるいは 個別設定の場合にはズームエディタを用いるしかありませんでした。
  • 光学薄膜(コーティング)の透過率/反射率特性図に、設計目標値も プロットされるようになりました。
  • コーティング用の材料 (膜材料) の新規定義、編集、削除を、専用の ダイアログで簡便に行えるようになりました。コマンドラインからの 起動は、"EDI CMAT" コマンドです。GUI からも利用できます。
  • アパーチャの属性として、HOLE (穴)を設定できるようになりました。 この設定を行えば、HOLE の内側に光路を取る光線は追跡されなく なります。カセグレン光学系の主鏡を設定する際などに便利です。 この機能は通常のシーケンシャルな面のみならず、ノンシーケンシャルな 面に対しても有効です。
  • 任意の開口形状を ビットマップファイル (BMP,PCX,PNGファイル) から 設定できるようになりました。この機能は、 "INT" オプションを用いて 利用できます。
  • 照明解析に関わるデータが、レンズデータとともにファイルに保存 されるようになりました。
  • CODE V (tm) の SEQ ファイルのやりとり (import/export) において、 座標のグローバル参照がサポートされました。
■改訂・修正箇所■
  • 最適化の制約条件を設定するために面番号が参照されている状態で 面の挿入・削除が実行されると、制約条件の定義データが失われる 場合がありましたが、修正されました。
  • SPS/UDS に表記される係数が、最適化の終了後に更新されていません でした。修正されました。
  • 最適化の変数として、ZDEが認識されないという不具合がありましたが 修正されました。
  • ノンシーケンシャル面中にHologram 面を定義した場合、光路長が 正しく計算されていませんでしたが、修正されました。

⇒ 英語版のリファレンスマニュアルが バージョン 5.90 に改訂されました。

⇒ 日本語のリファレンスマニュアルが Ver.5.90-J1 に改訂されました。
  前バージョン(日本語マニュアル 5.85-J1) からの改訂個所は次のとおりです。
  • 7.19章 : NOR面が光線追跡データを持たない事について説明を追加
  • 7.24.1章 : デフォメーションデータの保存に関する説明を節として記述
  • 7.29.2章 : 新機能、ホールアパーチャの実装に伴い節を新設
  • 10.3章 : 表形式のズームエディタが取り扱うポジションの上限について記載を追加
  • 10.4章 : ズームポジションの追加、削除、コピーに関する節を新設
  • 19.6章 : 膜材料エディタの取り扱いに関する節を新設
以上の他、下記パラメータがズーム化されている場合に、ポジション毎に 独立してコマンドラインから その値を変更できる様に改良されたことに伴い、 各章の記述が補足されています。
FNO, EPD, NA, NAO, PLO WAV, THI, POX, POY, POZ, GLA

⇒ お知らせ
  "Design tips (設計評価の秘訣)" を紹介するシリーズが 始まりました。
  現状は英語原版のままですが、随時、日本語版に置き換えて参ります。 これは、OpTaliX を用いて光学系の設計評価を実施する際に有用な テクニックや、追加情報を提供するものです。詳細は下記をご覧下さい。
  http://www.optenso.de/download/tips.html


最新の OpTaliX および マニュアルは下記よりダウンロードできます。

   弊社web     http://www.ekklesia.co.jp/
   Optensoサイト http://www.optenso.de/japan/

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 Pro版をダウンロードされるには、アップグレード権が必要です。
 アップグレード権は、Pro版とEdu版に標準で添付されています。
 (有効期間はご購入後一年間です。更新は有償です。)
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発行:合資会社エクレシア
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    担当:三和来佳

    東京都三鷹市下連雀3-38-4 三鷹産業プラザ 603
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    お問合せ support@ekklesia.co.jp
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